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现在产品已经发展到arf光刻胶阶段，而国内还在ktfr光刻胶阶段，后续研究一直停滞，相差三代。
这不仅仅是因为资金不够的原因，更大程度是因为电子行业与军事紧密相关，国外技术封锁，很难交流。
现在电子工业发展迅速，而华夏芯片的劣势也越来越明显，就靠着一些企业自己研究发展，进展缓慢，所以，政府想要重启光刻胶的研究。
江小溪听到这里，作为重生的人自然知道光刻机，一直到2020年，华夏的高端芯片依旧受制于人，而半导体工业中，下游设计已经迎头赶上，处于世界第一梯队，而上游设备和材料领域却依旧落后。
以光刻胶为例，国外g线/i线光刻胶七十年代投产，krf光刻胶八十年代投产，现在arf光刻胶两千年投产。
可是华夏呢，2020年的时候，光刻胶企业仅有北京科华微电子的krf光刻胶可以量产供
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